PVD涂層技術真空鍍膜流程原理及特點可以歸納如下：

一、PVD涂層技術真空鍍膜流程原理

PVD（物理氣相沉積）涂層技術真空鍍膜的基本原理是在真空條件下，利用物理手段將固體靶材蒸發或濺射，使得蒸發的原子或離子沉積到基底表面形成薄膜。這一過程主要包括以下幾個步驟：

1. 前處理工藝：褪膜、噴砂、拋光、鈍化、清洗、裝夾，確保鍍膜前產品表面的清潔。

2. 鍍膜工藝：

• 抽真空：將真空室內的殘余氣體抽走。

• 加熱烘烤：爐體和工件同時加熱，加速殘余氣體的釋放。

• 漏率測試（壓升率測試）：測試爐體的漏氣率和放氣率，確保真空環境條件滿足鍍膜標準。

• 轟擊清洗：去除工件表面的雜質，露出新鮮表面。

• 鍍膜：通過蒸發或濺射的方式，將蒸發的原子或離子沉積到基底表面形成薄膜。

• 冷卻出爐：避免工件氧化變色。

3. 后處理工藝：清洗、拋光等，確保鍍膜質量。

二、PVD涂層技術真空鍍膜的特點

1. 膜層附著力強：PVD涂層與工件表面結合力強，耐磨性好、耐腐蝕優異。

2. 性能穩定：涂層致密性好，耐腐蝕性能強悍，涂層正常使用年限可達5年以上。

3. 個性化定制：耐磨涂層顏色多樣，可滿足不同領域和個性化定制加工需求。

4. 應用廣泛：PVD涂層技術已廣泛應用于不銹鋼制品、精密機械零配件、新能源汽車配件、自動化裝備、醫療機械等領域。

5. 環境友好：PVD工藝對環境無不利影響，符合現代綠色制造的發展方向。

6. 提高性能：經過涂層處理后的工具和精密元件，其性能將提高幾個數量級，如實現更高的性能、延長使用壽命、降低潤滑劑消耗等。

綜上所述，PVD涂層技術真空鍍膜具有獨特的流程原理和顯著的特點，使其在多個領域得到了廣泛應用。