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真空濺射離子鍍膜(PVD)服務商

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淺談pvd鍍膜技術的應用領域

時間:2023-09-04    點擊數:

隨著經濟的發展和生活水平的提高,人們喜歡將表殼、表帶、服裝、燈飾、眼鏡、室內外裝飾架、五金盒、手機殼、衛生潔具、食品包裝等裝飾品裝飾得五顏六色。在生活中,我們會看到金黃色的、鈷銅色的、黑色的等七雜八色的鉆頭、銑刀、模具等。其實,這些就是經過鍍膜技術加工后的涂層工具。下面我們就針對這個技術,讓真空鍍膜鼎凱電子為你講解。

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由于鈦的廣泛應用,鈦合金PVD涂層已逐漸成為PVD鍍膜領域的常規材料。與不銹鋼相比,鈦合金PVD鍍膜的難點不在涂層本身,而是結合剝離和修復的綜合評估。缺陷產品的剝離過程是去除涂層的化學反應過程。由于鈦基材的產品價格較高,剝離過程和涂層去除過程的化學反應精度不是關鍵環節。在控制方面,首先考慮的是鈦合金PVD涂層的工藝設計。

鍍膜技術是一種環境友好的表面處理方法,可以真正無污染地獲得微米級涂層。它可以制備各種單金屬膜(如鋁、鈦、鋯、鉻等)、氮化物膜(TiN[鈦金]、ZrN[鋯金]、CrN、TiAlN)、碳化物膜(TiC、TiCN)和氧化物膜(如TiO2等)。

時至今日,pvd真空鍍膜技術的發展也出現了諸如PCVD(物理化學氣相沉積)、MT-CVD(中溫化學氣相淀積)等新技術,各種鍍膜設備和工藝層出不窮。目前比較成熟的PVD方法主要有多弧鍍和磁控濺射鍍。本實用新型結構簡單,操作方便。多弧電鍍的缺點是當涂層厚度達到0.3μm時,沉積速率接近反射率,并且在使用傳統DC電源作為低溫涂層的條件下,成膜變得非常困難。此外,薄膜表面開始變得模糊。多弧電鍍的另一個缺點是,由于金屬在熔化后被蒸發,沉積的顆粒大,密度低,耐磨性比磁控濺射更差。由此可見,多弧鍍膜和磁控濺射鍍膜各有優缺點。為了充分發揮各自的優勢,實現互補,一種結合多弧技術和磁控管技術的鍍膜機應運而生。在該過程中,有一種新的方法,即對背襯進行多弧電鍍,然后使用磁控濺射加厚涂層,再使用多弧電鍍實現穩定的表面涂層顏色。


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