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昆山PVD離子鍍膜技術(shù)

時(shí)間:2023-06-24    點(diǎn)擊數(shù):

昆山PVD是物理氣相沉積技術(shù)(Physical Vapor Deposition)的簡(jiǎn)稱,是指在真空條件下,采用物理的方法將材料(俗稱靶材或膜料)氣化成氣態(tài)分子、原子或離子,并將其沉積在工件形成具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù),常見的PVD沉積技術(shù)有:蒸發(fā)技術(shù)、濺射技術(shù)、電弧技術(shù)。

        離子鍍膜技術(shù)是PVD技術(shù)的一種,是指在PVD沉積過程中,被鍍材料形成金屬或者非金屬等離子體(如Ti離子,N離子),等離子體在偏壓電場(chǎng)的作用下,沉積在工件表面上。由于離子鍍過程中,離子的能量更強(qiáng),離子繞射性更好,膜層的結(jié)合力更好,膜層致密性也更好,膜層性能更好。

        離子鍍膜技術(shù)的應(yīng)用非常廣泛,常見的有:裝飾性鍍膜,工具模具硬質(zhì)鍍膜以及各種功能膜層。

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