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真空濺射離子鍍膜（PVD)服務商
致力于高端涂層技術的研究提供成套解決方案
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真空蒸發鍍膜的基本工藝流程：
鍍前準備→抽真空→離子轟擊→烘烤→預熔→蒸發→取件→膜層表面處理→成品
真空蒸發鍍膜的特點：
優點：設備簡單易操作，制成的薄膜純度高、質量好，厚度可較準確控制，成膜速率快，效率高，薄膜生長機理比較簡單。
缺點：所形成的薄膜在基材上附著力較小，工藝重復性不夠好，不易獲得結晶結構的薄膜。
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