什么是PVD真空鍍膜？
PVD是：Physical Vapor Deposition英文的縮寫，中文意思是：物理氣相沉積。主要意思是指在真空條件下，在真空狀態下注入氬氣，氬氣樁基靶材，靶材分離成分子被導電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。
PVD鍍膜技術主要分為：真空離子鍍膜，真空濺射鍍，真空離子鍍膜。我們經常說的
PVD鍍膜就是指真空離子鍍膜，近幾年來，真空離子鍍膜技術發展是最快的，它已經成為當今社會最先進的表面處理方式之一。PVD鍍出的膜層硬度高，耐磨性強，耐腐蝕性好，化學性穩定，而且膜層壽命長。
PVD鍍膜可以鍍膜出的顏色種類：可鍍IPG、IP紫色、IP玫瑰金色、IP鎢鋼色、IP鉻色、IP咖啡色、IP紅、IP鈦色、IP藍色及IP黑、槍色、ＩＰ灰等，可以通過控制鍍膜過程的相關參數來控制鍍出來的顏色，鍍膜結束后可以用相關的儀器對鍍膜出來的顏色進行檢查，使顏色得到準確來滿足客戶要求。
PVD鍍膜膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.3μm ～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm ～1μm ，因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學性能，鍍后不須再加工。
PVD鍍膜技術的特點：
1 ．膜層與物件表面的結合力強，保色更加持久，耐磨性強
2 ．離子的繞射性能好，能夠鍍形狀復雜的物件
3 ．膜層沉積速率快，生產效率高
４.可鍍膜層顏色種類廣泛
５.穩定性高、環保
PVD鍍膜的整個工藝流程：ＱＡ品檢—上掛—清洗—烘烤—電鍍—出爐—下架—全檢
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