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PVD鍍鉻技術的原理及優勢

時間:2020-07-25    點擊數:

本技術以自主研發的電弧-濺射技術為基礎,吸收國外最新涂層技術,開發等離子體源增強的PVD鍍鉻新技術,取代現行電鍍鍍鉻技術,從根本上解決電鍍生產過程造成的重金屬污染問題。

一、 PVD鍍鉻技術原理

本技術主要采用電弧-濺射技術,利用陰陽極之間的放電離化氬氣,使氬離子在作為陰極的靶材電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶原子,中性的靶原子或離子沉積在基片上,形成固體薄膜。本項目在上述原理的基礎上進行改進和新技術開發,采用改進的電弧-濺射技術提高靶功率密度,采用等離子體源增強技術提高鍍膜室的等離子體密度,從而開發出環保、高效的快速PVD鍍鉻新技術。

二、 PVD鍍鉻技術的優勢

1. 完全無污染的生產工藝過程

在涂層前處理中,采用環保型的金屬清洗劑對工件表面進行去油和脫脂處理,烘干后工件放入真空室中進行PVD鍍鉻處理。鍍鉻過程以高純金屬鉻為原料,通入氮氣和氬氣等瓶裝氣體,在沉積鉻復合涂層的專用設備中,采用先進的等離子體源輔助電弧-濺射等先進技術,通過電場、磁場、等離子體和離子束流的作用,發生化學反應,實現了鉻復合涂層的生成。使用的原材料價廉易得,國內可以大量供應。在整個工藝生產過程中,沒有采用任何有毒有害的原料,是完全無污染的綠色環保生產技術。

2. 優良的基體材料適應性

由于PVD鍍鉻裝置能夠提供較高的等離子體密度和靶功率密度,所制備涂層膜-基附著力強,可以在不同襯底材料上(鋼鐵、有色金屬、陶瓷)制備各類金屬和合金。而電鍍方法對于不同基材需要不同的處理工藝。對制備不同的涂層材料,PVD技術只需要更換靶材,而化學方法制備不同材料需要一系列復雜的配方和前處理工藝。

3. 優越的涂層性能

與電鍍鉻相比,PVD鉻涂層的硬度更高。電鍍鉻的硬度一般為Hv800~900,而PVD方法可以達到Hv1500以上,同時耐磨性遠優于電鍍鉻。PVD方法在涂層制備過程中涂層致密,沒有孔洞,不會產生穿透性裂紋,導致腐蝕介質從表面滲透至界面而腐蝕基體,造成鍍層表面出現銹斑甚至剝落;


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